高純潔凈氣體配管參考 無錫衛生級不銹鋼管現貨經銷
所有高純度、高潔凈的氣體均需通過管路輸送到設備用點（POU），為了達到工藝對氣體的質量要求，在氣體出口指標一定的情況下，則更需重視配管系統的材料選用和施工質量。除取決于制氣或凈化設備的精度外，在很大程度上受到管路系統諸多因素的影響，因此，管材的選取應恪守相關行業原則，并在圖紙中注明管道材質。
管路的材質則依使用的需求進行選擇，若為制程用的反應氣體則選擇高等級的316L EP管，經電解拋光(Electro-Polish)處理，耐腐蝕，表面粗糙度低，Rmax(maximum peak to valley height)約為0.3μm以下，其值遠低于經過光輝燒結(Bright Anneal)處理之316L BA管的0.8μm，因平整度越高越不容易形成微渦流，而將污染粒子帶出。316L BA管則常使用于和芯片接觸但不參與制程反應的氣體，如GN2、CDA。管內表面粗糙度是衡量管材質量的標準。粗糙度越低，其顆粒攜帶可能性大大降低。另一種未經特殊處理的AP管(Annealing & Picking)，則用于不做為供氣管路的雙套外管。
目前在國內潔凈管道可參照標準比較少，通常我們除了參照《潔凈廠房設計規范》《氫氣站設計規范》《氫氧站設計規范》《壓縮空氣設計規范》等有關技術行業技術規范外，在業內我們慣用的選材與配管一般參照國際通用的行業標準：
在半導體體行業線寬越做越小，其對氣體純度、顆粒度、雜質含量、露點的要求也越來越高。表1是各線寬下對超純氮氣的要求
高純氮氣（PN2）：系統管道采用內壁電解拋光（EP）低碳（316L）不銹鋼管，閥門采用相同材質的波紋管閥或隔膜閥。
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氮氣（N2）：系統管道采用內壁電解拋光（EP）低碳（316L）不銹鋼管或光亮退火（BA）低碳（316L）不銹鋼管，閥門采用相同材質的波紋管閥或球閥。3 P5 j7 A+ L* }
高純氫氣（PH2）氫氣（H2）：系統管道采用內壁電解拋光（EP）低碳（316L）不銹鋼管，閥門采用相同材質的波紋管閥或隔膜閥。氬氣（Ar）：系統管道采用內壁電解拋光（EP）低碳（316L）不銹鋼管，閥門采用相同材質的波紋管閥或隔膜閥。' D8 \0 m& A& S- z) ^3 Q$ M
氦氣（He）：系統管道采用內壁電解拋光（EP）低碳（316L不銹鋼管）閥門采用相同材質的波紋管閥或隔膜閥。4 ]6 r+ K4 P3 k* p
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特氣系統：必要的還需做雙套管：外管酸洗鈍化（AP）處理，內管電解拋光（EP），閥門采用相同材質的波紋管閥或隔膜閥。
壓縮空氣（CDA）：系統管道采用光亮退火（BA）低碳（316L）不銹鋼管，閥門采用相同材質的球閥（要求不高的公司亦可采用銅管，視工藝要求定）2 y" y. g8 v0 C* k3 p. u9 _/ s
對于特殊氣體來講，氣體品種多，有毒有害氣體多，原來是一機臺配一氣柜，高昂的裝備組合和維修費用大大增加了投資成本，且有的還布置在工藝間內，存在著泄漏的安全隱患�，F在廣泛采用集中供氣系統，氣柜集中，自控系統不斷完善，其報警、噴淋、切換、吹掃多較為成熟，特氣間也與工藝間隔離，并對房間有防爆要求，工作的安全性大大提高。 $ E2 g$ K% k) y. {
針對腐蝕性、毒性、燃燒性的氣體，通常設計將鋼瓶置于氣瓶柜(Gas Cabinet)內，再透過管路將氣體供應至現場附近的閥箱(VMB, Valve Manifold Box)，而后再進入制程機臺的使用點(POU, Point of Use)，于進入機臺腔體之前，會有獨立的氣體控制盤(GB, Gas Box)與制程控制模塊聯機，以質流控制器(MFC, Mass Flow Controller)進行流量之控制與進氣的混合比例控制，通常此氣體控制盤不屬于廠務系統的設計范疇，而是歸屬制程機臺設備的一部份。一般的惰性氣體則是以開放式的氣瓶架(Gas Rack)與閥盤(VMP, Valve Manifold Panel)進行供應。
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